14、在背景圖層上面新建一個(gè)組，用鋼筆勾出下圖所示的選區(qū)，給組添加圖層蒙版。

<圖15>

15、在組里新建一個(gè)圖層填充白色，不透明度改為：20%，同樣用到參照，效果如下圖。

<圖16>

16、新建一個(gè)圖層，用鋼筆把底部邊緣的高光部分勾出來，羽化1個(gè)像素后填充白色，不透明度改為：30%，效果如下圖。

<圖17>

17、其它部分的高光制作方法相同，中間的高光需要涂抹工具稍微涂抹一下，同時(shí)要控制好圖層的不透明度。

<圖18>

<圖19>

18、其它高光制作方法相同，過程如圖20 - 22。

<圖20>

<圖21>

<圖22>

19、右側(cè)的球體可以直接復(fù)制左側(cè)的，效果如下圖。

<圖23>

  20、在圖層的最上面創(chuàng)建亮度/對(duì)比度調(diào)整圖層，適當(dāng)增加圖片的對(duì)比度，參數(shù)及效果如下圖。

<圖24>

<圖25>

21、把背景圖層隱藏，新建一個(gè)圖層，按Ctrl + Alt + Shift + E 蓋印圖層，不透明度改為：30%，再把背景顯示出來，效果如下圖。

<圖26>

最后微調(diào)一下細(xì)節(jié)，完成最終效果。

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